Каково влияние плазменной обработки поверхности на материалы?

Для машина для плазменной обработки поверхности, запрос клиента очень прост, то есть потратить как можно меньше денег на решение проблемы собственной продукции.Что касается того, какой процесс используется, это не имеет значения.На самом деле в этом есть доля правды.Кому интересны машины.

Регулировка эффекта машины плазменной очистки в основном зависит от следующих аспектов: мощность, газ, источник питания, вакуумный насос, атмосферное давление или вакуум, время очистки, уровень вакуума, соотношение конфигурации газа и другие параметры для настройки.Во многих случаях эти параметры процесса регулируются постепенно.Если подобные материалы ранее не обрабатывались, настройки процесса будут сохранены в базе данных.

Нелегко настроить параметры, особенно при тестировании тефлона, керамики и силикагеля, это занимает больше времени, даже если это одна и та же машина и те же параметры, пока один из параметров немного изменен, то очистка Эффект будет сильно отличаться.

Перед обработкой материала оборудованием для плазменной обработки необходимо обеспечить чистоту поверхности материала.

Всем известно, что плазменное оборудование практически не имеет ограничений по обрабатываемым материалам.Обрабатывать можно практически все материалы, но толщина плазменной обработки невелика, всего от нескольких до десятков нанометров.Если на поверхности материала слишком много загрязнений, она может быть даже влажной, то плазменная очистка точно не эффективна.Аппарат плазменной очистки по названию называется плазменной очисткой, но на самом деле он изменяет поверхность материала вместо очистки.После того, как поверхность материала модифицирована плазмой, это может значительно улучшить способность поверхности материала к склеиванию, распылению и гальванике.

Но если вы просто удаляете загрязнения с поверхности материала, то можно рассмотреть ультразвуковую промывку водой.В воду можно добавлять различные чистящие средства, а высокотемпературная вибрация может обеспечить хороший эффект очистки.После завершения ультразвуковой очистки можно приступать к процессу сушки.

В практических приложениях поверхность материала обычно сначала очищают ультразвуком, а затем поверхность материала модифицируют плазмой.

Пылесос-плазменный очиститель очень требователен к количеству вводимого газа, времени очистки и порядку подачи газа.

Преимущество вакуумной плазмы по сравнению с плазмой атмосферного давления заключается в том, что она может легко регулировать различные процессы очистки и контролировать ряд параметров, таких как газ и время.Во многих случаях из-за особенностей чистящего материала часто используются несколько газов.Например, один и тот же объект сначала обрабатывается водородом, а затем кислородом или другими газами.Для достижения желаемого эффекта требуется полный процесс.Разумеется, эти параметры будут установлены на заводе.Когда они используются на месте, их можно использовать непосредственно в соответствии с процессом.